PVD表面膜层处理工艺（溅镀）

介绍一种工艺：PVD----Phisical Vapor Deposition 物理气相沉积。行业称为“溅镀”。
基本原理：电场作用下Ar气体转化为Ar+，Ar+轰击N2形成N原子，同时被轰击的Ti金属基体飞溅出Ti金属原子与N形成TiN化合物，TiN在电场作用下飞溅至待沉积零件表面形成特殊沉积膜层，逐渐达到成膜的目的。TiN由于其膜层硬度极高，也可以做成不同颜色，已经应用到手机等等机壳表面处理。耐磨，美观。相似的方法还可以形成其他化合物膜层，得到更高的表面硬度，如SixCy，硼化物等等，配合于Au等膜层效果更佳。

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关键词：PVD，溅镀，高硬度