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黑带试题求解

题目:六西格玛团队在半导体封装中某个工艺的改善过程中已经完成了三个因子的全因子试验设计,但是发现有明显的曲性。为了优化工艺参数希望拟合出2阶模型,但是输入因素“功率”(单位:MW)原先的高、低水平分别为40和50,由此产生的轴向延伸试验点分别为37.93和52.07,超出了设备可控制的功率设置范围[38.5,51.5],这时,由于试验成本很高,团队希望尽量使用上次全因子设计的数据,以下哪种方法最适合该六西格玛团队采用?
A.    改用Box-Behnken设计试验方案 
B.    改用三水平设计 
C.    使用中心复合设计近似旋转性试验方案,轴向延伸试验点自定义改为38.5和51.5,其他不变 
D.    使用中心复合设计CCI试验方案,先确定轴向延伸试验点为38.5和51.5,再反推出高、低水平试验点为40.4和49.6
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杨格_Alan (威望:668) (江苏 无锡) 机械制造

赞同来自: Leewoaini8 wbnewlife

应该选C。CCD对轴点是否完全符合等径不是太敏感。
Box-Behnken设计,虽然具有较好的旋转性和较少的试验次数,但设计因为不包含角点;所以之前的试验就失去了参考性,不具备Sequentiality.
三水平试验需要更大的试验次数,据题意,不合适。
CCI没有序贯性,而且对于试验区域外的情况外推是很忌讳的。不可靠。

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zhaoliang
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