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SPC手册中的一些疑问

D. 过程能力解释
继续使用图18的例子来讨论下列假设下的过程能力的解释:
•过程处于统计稳定状态;
•过程的各测量值服从正态分布;
•工程及其它规范准确地代表顾客的需求;
•设计目标值位于规范的中心;
•测量变差相对较小。
在SPC手册中有这样一段话,请问大神们这里边的统计稳定状态是什么意思?和各测量值服从正态分布之间有什么区别?
还有就是测量变差相对较小,这个相对较小的量是怎么判定的?是有公式可以计算吗?
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ganlu606 (威望:9) (江苏 常州) 电子制造 工程师 - 没有介绍

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本帖最后由 ganlu606 于 2013-3-16 17:54 编辑

过程处于统计稳定状态, 是说测量点没有异常点,判定办法是SPC控制图中的几条准则,如没有点超过控制限等。
过程的各测量值服从正态分布,是因为SPC控制图是基于正太分布来分析的,控制图是将正太分布图形旋转得到的,所以正太分布这是前提。
测量变差相对较小,是基于MSA来说,因为你测量有误差,而测量误差会影响到SPC控制分析上去,判定准则基于MSA GR&R里的几条判定方法。
同时规格限(客户给的,或者是公司制定的标准)和控制限这两者不是一致的,可能你的数据是在规格限内的,但是这个数据不在控制限内,所以控制图会判异的。

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